Kimyasal Buhar Depozisyonu (CVD)

CVD bir kimyasal reaksiyon prosesidir.

Bir veya birden fazla gazın sıcak bir altlık üzerinde ayrışarak kararlı bir katı ürün oluşturması.

· İnce film oluşturma açısından CVD, PVD den çok daha kompleks bir metottur.

· CVD, çok saf, yoğun ve ince taneli kaplamaların oldukça hızlı biriktirme hızlarında yapılmasına imkan veren bir yöntemdir.

· Özellikle plazma desteği ile kompleks şekilli parçaların kaplanması ve üretilmesine imkan verir.

· CVD, metalik, seramik ve yarı iletken kaplamaların üretiminin çok yaygın yapıldığı bir tekniktir.

Kaynak: Prof. Dr. Hatem Akbulut’un “Nano Kaplama Teknikleri” (30 Ekim 2006 Pazartesi) sunumundan derlenmiştir.