Fiziksel Buhar Depozisyonu (PVD)

PVD ile daha çok geçiş metallerinin nitrürleri üretilir.

TiN, TiCN, TiBN ve TiAlN nitrürleri PVD ile kaplandığı gibi CVD ile de kaplanabilir.

PVD’de kaplama hızı yüksek, altlığa yapışma problemi var.

CVD de kaplama hızı düşük, altlığa iyi yapışma (kimyasalların korozyon etkisi var).

İyon destekli PVD ile iyon bombardımanı iri tanelerin he oluşumunu engeller ve taneler nano boyutta büyür.

TiN, CrN, VN ve ZrN iyon bombardımanlı PVD ile başarılı olarak nano boyutta üretiliyor.

Kaynak: Prof. Dr. Hatem Akbulut’un “Nano Kaplama Teknikleri” (30 Ekim 2006 Pazartesi) sunumundan derlenmiştir.